近日，显示技术领域迎来一项重磅突破。韩国国民大学都英乐教授研究团队成功开发出一种名为“UVIMA”（紫外线照射水分吸附）的全新技术，该技术被证实能从根本上解决制约超微型MicroLED（尺寸小于5微米）发展的核心难题——效率急剧下降问题。这一突破为MicroLED在下一代显示设备中的大规模应用铺平了道路。

MicroLED（微米发光二极管）被誉为继OLED之后的下一代显示技术，拥有高亮度、长寿命和低功耗等先天优势。然而，当芯片尺寸缩小至5微米以下时，在制造过程中产生的表面缺陷会捕获电能，导致发光效率不升反降，这一直是阻碍其商业化的最大技术障碍。

传统技术无法有效解决这一难题。都英乐教授团队独辟蹊径，设计了一套整合了低损伤蚀刻和核心UVIMA技术的创新工艺。UVIMA技术的原理是利用紫外线光化学活化空气中的水分，使其稳定修复LED表面的关键缺陷。

更令人惊喜的是，澳洲幸运5app下载该工艺还激活了氮化镓基LED中一种名为“延迟发光”的物理机制。这一机制能将原本被缺陷损耗掉的电子“抢救”回来，重新参与发光，变废为宝，从而大幅提升效率。

实验数据极具说服力：应用该技术后，尺寸小于5微米的铟镓氮/氮化镓Fin-LED实现了70.9%的内量子效率和约18，000 cd/m²的亮度。这些关键指标证明，超微型LED的性能已经达到了可工业化应用的水平。

此外，该技术下的Fin-LED结构易于通过介电泳技术进行精准排列，展示了制造从智能手表、车载屏到超高分辨率显示屏的巨大潜力。团队已成功制作出64×64像素的微型显示屏原型，验证了其可行性。